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中国光刻机现在多少纳米2022 国产突破14纳米

发布时间:2022-12-10 16:25 来源:台祐百科

2022年9月14日,上海市委外宣办举行“奋进新征程建功新时代”专题系列新闻发布会首场新闻发布会。

发布会上,上海市经济信息化工作党委副书记、市经济信息化委主任吴金城透露,在集成电路领域,上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破;全市集成电路产业规模达到2500亿元,约占全国25%,集聚重点企业超过1000家,吸引了全国40%的集成电路人才。

信息量有点大,让我捋一捋。

1、14纳米先进工艺规模量产。

这个大概率说的是中芯国际,中芯实现14纳米量产不是新闻,最新的消息是它已经使用相对落后的DUV光刻机实现了7纳米制程的芯片生产,用在了矿机上。

这里要给梁孟松博士掌声。

不过,略遗憾的是,中芯国际的14纳米制程,依然依赖ASML的DUV光刻机,还做不到完全自主可控。星空君相信,这一天越来越近了。

2、90纳米光刻机

来自上海微电子,最近很多“业内人士”对上海微电子各种言论非常多,甚至嘲讽上海微电子只不过用进口的二手设备拼凑。

要牢记一句话:如果敌人起劲地反对我们,把我们说得一塌糊涂,一无是处,那就证明我们的工作是很有成绩的了。

ASML的光刻机都能搞3纳米、2纳米了,90纳米光刻机有什么意义?

光刻机和芯片的制程,是两码事。90纳米的光刻机经过两次曝光可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm(当然良品率会下降)。

做个对照,iPhone5s的核心芯片用的是28nm制程。从数量上来说,市场上90%以上的需求都是28nm制程以上。

所以90纳米的光刻机可以做很多事了。

3、5纳米刻蚀机

不用说,这是尹志尧大佬创立的中微半导体的得意之作。从65纳米到5纳米,中微半导体用了11年,现在中微半导体的刻蚀机已经供货台积电。

其实刻蚀机也是光刻技术上很关键的一个节点,中国已经实现了突破,意味着其他环节(尤其是光刻机)并不是高不可攀的。

只要资金、人才到位,只是时间问题。

在中国GDP位居世界第二,实际购买力计算的GDP已经超越美国的情况下,很多吹嘘“润”学的人在网上散布言论。

星空君想说的是,要搞清楚这个世界真正的增量在那里,资本在哪里,机会在哪里。真正的大佬像尹志尧这样的都润回国了。

4、12英寸大硅片

来自于中科院上海微系统所。

截至2022年5月,中科院上海微系统所累计出货量超500万片,满足国内5家主要集成电路制造企业23%的正片需求,解决了我国集成电路产业战略急需问题。