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国产最新光刻机多少纳米 国产28纳米光刻机最新消息

发布时间:2022-12-09 11:15 来源:台祐百科

国产光刻机技术有了新进展了!老狐最近得知,华为公布了自研光刻机的部分技术专利。

根据专利显示,华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利,而是 EUV 光刻机其中一部分的专利。

该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”,匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题。

简单来说解决这个匀光问题,对成品质量有着决定性作用,光越均匀,成品也就越好,大大提高了良品率。

对华为的好处是,能更好地控制住成本,这样一来,商用的概率也就越大了。

事实上,除了国产光刻机技术在不断发展,国外光刻机的卡脖子状况,也出现了松动的迹象。

2018 年开始,ASML 被美国施压,禁止向中国出口最先进的极紫外线光刻机(EUV),但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机(DUV)。

到了今年,美国变本加厉,要求连 DUV 也要禁售,这下 AMSL 不干了。

11 月 25 日,荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示,荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判。

很明显,美国限制光刻机对中国出口,大大伤害了 ASML 的经济利益,他们不想再听美国人的话。

今年第一季度 ASML 就向中国出货了 23 台 DUV 光刻机,中国市场就此超过美国,成为 ASML 第三大市场。

在被限制的条件下,依然能排到第三,可见国内市场的潜力,ASML 肯定不愿意放弃。

另一方面,中国科技的特点,是越被封杀,就越要发展,赶上封杀者,最后迫使封杀者不得不低头。

比如,中国在突破盾构机技术后,德国盾构机就降价了,但中国依然按自己的步伐制造生产盾构机。

如今,这一幕很可能会再现,如果 ASML 继续封杀,等国产光刻机起来,ASML 日子就不好过了。

于是,在封杀多年后,ASML 光刻机,重新出现在中国大陆。

由上海建工四建集团承建的临港重装备 F16-01 地块,近日举行了鼎泰匠芯洁净室交付仪式,首台 ASML 光刻机搬入。

该项目于 2021 年 7 月开工,建成后将成为中国首座 12 英寸车规级功率半导体自动化晶圆厂。

据悉,建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程。

项目完成后,可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片,主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品。

不过,虽然国产光刻机开始不断进步,但技术差距和国外依旧有较大差距,这是客观现实。

现阶段,我国无法制造高端光刻机,但可以制造一些低、中端的光刻机。

2020 年 6 月,上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机。

国产 28 纳米光刻机,与已面世的5纳米顶尖制程,依然存在较大的差距,

但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片,仍可以采用 28~90 纳米工艺。

我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距,但未来依然可期。

因此老狐认为,我们既不要妄自尊大,也不要妄自菲薄,只有脚踏实地,一步一步发展,才是正道。